Atomic Layer Deposition

微机电系统(MEMS)包括三维器件作为移动单元,在这个过程中,在三维部件的内部和外部会需要各种各样的薄膜。 ALD技术对这种应用有非常完美的适用性,像金属、氮化物、氧化物在许多情况下就会需要。

金属作为导电层,高k介电氧化物作为移动电极的介电层,疏水和抗粘附层,湿法和干法刻蚀的掩膜涂层,MEMS镜面显示器的光学层和介电层,穿透式微型光开关(TMOS),加速计,压力传感器等。