Atomic Layer Deposition

AR膜在光学产业中相当重要。它通常由高低反射层构成,如SiO2-ZrO2或SiO2-TiO2 。 过去应用蒸发技术沉积薄膜,但是AR膜沉积的厚度的精确控制直接影响到了防反射能力,通常在100nm内的薄膜,采用蒸发镀膜厚度偏差在10-15%,这 极大的降低了防反射能力。另外,普通蒸发技术要把基体放置于比蒸发源高的多的位置。与此相比,ALD技术能在复杂的基体表面达到很高的一致性,均匀性小于 1%的薄膜均匀性,有效的提高了防反射能力,可重复性高又极大的降低了成本。 而且,ALD技术能在基体的两个面上同时进行薄膜沉积。