Atomic Layer Deposition

1998年起,ALD就已经成为多层结构光学电介质的沉积技术之一。用ZnS和Al2O3作为高低折射率材料进行抗反射包覆、中子束分裂器、高反射包覆, 制成了Fabry-Perot 滤光器。并进行了其光学性能与理论理想结构的材料进行传输和反射分析的研究。 现在,用ALD技术能够达到可控折射率的交互式Al2O3-TiO2的薄膜包覆。这种方法达到了对极薄的包覆层的精确控制,这使得能够制备出梯度折射率的 包覆层,而改善了材料的光学性能,由此可应用于光波传导、窄带滤波器以及宽带光导纤维包覆。