News & Events

提供基于ALD技术的分子层沉积/自组装单分子膜的技术支持

发布时间:2012-03-27 丨 浏览:3100
我公司现已开展基于ALD技术的分子层沉积/自组装单分子膜的推广并提供技术支持 
 
英作纳米科技(北京)有限公司的原子层沉积系统,可满足和实现以上的应用要求。我们竭诚为用户提供完善的技术支持与服务。
 
相关技术简介如下:
 
分子层沉积(Molecular Layer Deposition MLD)
自组装单分子膜Self Assembled Monolayers SAMS)
 
原子层沉积(ALD)是将物质以单原子层的形式逐层沉积在衬底表面。该技术已扩展应用到分子层生长领域。
 
分子层沉积(MLD)是用带有两种不同官能团的前驱体交替地反应,膜的化学反应是在前一层膜的基础上生长的,该反应每次只生长一个分子层。以XRX YR′Y为例,其中“X”“Y”为两种官能团,R and R′为有机分子碳链,其反应如下:
 
(A) SR'Y* + XRX → SR'-RX* + XY  (1)
(B) SRX* + YR'Y → SR-R'Y* + XY  (2)
 
目前,通过分子层沉积技术可以实现生长的薄膜有聚酰胺[1-2]、聚酰亚胺[3]聚酰亚胺聚酰胺[4]、聚脲[5]等有机高分子膜。
 
结合ALDMLD技术,有关研究人员进一步实现了无机/有机交替生长的复合薄膜。目前,氧化/有机复薄膜[6]、氧化锌/有机复合薄膜[7]、氧化钛/有机复合薄膜[8]等均已有报到。
 
由于ALD/MLD是精确可控的薄膜制备技术,随着越来越多的人在无机、有机和无机/有机复合薄膜等领域的深入研究,一定能开发出具有优越性能的新材料,必将具有很大的研究和应用价值。
 
参考文献:
 
[1] Adamczyk, N. M.; Dameron, A. A.; George, S. M. Langmuir 2008, 24, 2081.
[2] Du, Y.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 8509.
[3] Putkonen, M.; Harjuoja, J.; Sajavaara, T.; Niinisto, L. J. Mater. Chem. 2007, 17, 664.
[4] Miyamae, T.; Tsukagoshi, K.; Matsuoka, O.; Yamamoto, S.; Nozoye, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41(1), 746.
[5] Kim, A.; Filler, M. A.; Kim, S.; Bent, S. F. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 6123.
[6]Xinhua Liang; David M. King; Peng Li; Steven M. George; Alan W. Weimer, American Institute of Chemical Engineers, 2009, 55(4), 1030.
[7] Byunghoon Y; Jennifer L.; Dragos S; Andrew S., Steven M. G. Chem. Vap. Deposition, 2009, 15, 112.
[8] Kwan-Hyuck Y, Kyu-Seok H; Myung-Mo S, Nanoscale Research Letters 2012, 7:71