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ALD技术裁剪纳米多孔材料

发布时间:2011-12-02 丨 浏览:1786

根特大学科学工作人员利用ALD技术的全包覆性及完好的台阶覆盖率,着重研究ALD技术的催化设计。采用ALD技术在多孔薄膜孔径内部沉积TiO2薄膜,使孔径缩小至4-6nm,沉积TiO2薄膜后的多孔材料具有光电催化活性;采用ALD技术在沸石表面及孔径沉积Al2O3,可以产生酸催化活性
 
信息来源--Tailoring nanoporous materials by atomic layer deposition
Chem Soc Rev / 2011 Nov 17; 40(11): 5242-53.