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LabNanoTM系列是专门为科学研究与工业开发领域的用户而设计的灵活精巧、高度集成的原子层沉积系统。完全符合CE标准。它的操作界面直观简单,初学者容易熟练掌握,配备多种材料的标准沉积工艺配方,使用及维护成本低。

高度集成和灵活性该系列适用于固态、液态、气态前驱体源。提供2路到6路前驱体源管路供用户选择。兼容臭氧发生器、气氛手套箱、大尺寸多片样品沉积附件等多种选配件。

精确控制与多种沉积模式:用户可通过设定循环次数和时间来实现原子级尺度厚度可控的薄膜沉积。包括三种沉积模式:连续模式TMFlowTM)、停流模式TMStopFlowTM)、压力调谐模式TMPreTuneTM)。可实现高速沉积、对微孔内壁、超高宽深比结构等复杂异型3D结构的沉积。消除CVD效应和前驱体反流对沉积过程的影响。实现在材料物质改性等领域的重要应用。

多种标准沉积工艺配方:我们为客户提供多种材料的标准沉积工艺配方,包括在不同条件、不同沉积速率下的工艺配方以满足用户的需求。

完美的易操作性:操作界面直观简单操作者很容易熟练掌握。所有参数(前驱体源温度、管路温度、腔体温度、载气流量,脉冲时间等)均在计算机操作界面中设定修改,整个沉积过程及状态参数均实时显示。所有薄膜沉积模式及工艺配方均可以实现自动存储调用。包含多重安全保护机制,如过压保护及出现异常自动关闭ALD阀门防止前驱体泄漏等。

稳定可靠与低使用维护成本:DualOTM氮气保护的双O-Ring高温密封系统,有效隔绝其他气体渗漏。最紧凑的全部加热的管路设计和大面积小体积的腔体结构,结合特殊的尾气处理装置,把前驱体源的浪费减少到最低,既有效地节约了前驱体的使用量,同时又避免了在管路中的残留反应和对真空泵的污染所造成的损失。

独有的技术优势:氮气保护的双O-Ring高温密封系统,提高膜层质量。

基本技术参数 

基片尺寸

4 -12 英寸可选

样品高度

6 mm  可选配更高样品选件

基片温度

RT-400,控制精度±1℃,可选配更高温度选件

前驱体输运系统

标准2路前驱体管路,可以选配到6路以上

载气系统

N2或者Ar

沉积模式

连续模式TMFlowTM)、停流模式TMStopFlowTM)、压力调谐模式TMPreTuneTM

可选件

手套箱,大尺寸/多片样品夹具,颗粒包裹夹具,臭氧发生器,原位监测系统,尾气处理系统,客户定制反应腔等

沉积均匀性

Al2O3 均匀性 <+/−1%

电源

50-60Hz, 220V /15A交流电源

机柜

标准金属机柜,易拆卸柜板,可调节支脚

仪器尺寸

1100 X 600 X 1200 mm

 

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