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FabNanoTM  系列是专门为工业小型化量产用户而设计的工业极原子层沉积系统。采用了独特的前驱体输运系统,可以完美实现薄膜厚度与薄膜厚度均匀性的精确控制。配备多种材料的标准沉积工艺配方,满足工业应用的标准, 使用及维护成本低。

主要特点:

精确的过程控制
便捷的操作界面
完善的沉积工艺
快速的温度恢复时间
高批量的生产模式
多重安全机制,易操作
超低的运营维护成本

基本技术参数

基片尺寸

4 -12 英寸可选, 其他尺寸基片可选

基片温度

RT-300,控制精度±1

前驱体输运系统

标准2路前驱体管路,可以选配到多路

基片输运系统

手动, 手动/自动Load lock可选

沉积模式

高速沉积模式

沉积速率

单循环时间:<30s (25)   单循环时间:<40s 52片)

沉积均匀性

Al2O3  均匀性 <+/−2%

处理能力

52- 4 英寸

其他

可按用户要求定制

 

详细信息请联系我们