Products

LabNano PETM系列是专门为科学研究与工业开发领域的用户而开发的具有等离子体增强; 离子束辅助沉积功能的原子层沉积系统。相关附件可容易互换,配备多种材料的标准沉积工艺配方,使用及维护成本低。

独特的腔体和气路设计专利技术的喷淋式等离子体和前驱体气体进口以及独特的穹顶型扩散腔和纺锤形真空腔,让等离子体和前驱体在反应腔内更加均匀扩散。

原子层沉积专用远程等离子源原子层沉积专用的ICP远程等离子体源相对于电容式等离子源具有更高密度的自由基,更温和的离子能量。消除了等离子体对基片表面薄膜的刻蚀作用,提高了成膜质量与沉积效率。等离子体产生腔采用高纯>99%氧化铝,可兼容氟化物在内的多种气体;铝制等离子体扩散腔防止腔壁杂质在等离子作用下的析出。

等离子体在基片表面的气压和流速     前驱体在基片表面的气压和流速

高度集成和灵活性该系统适用于固态、液态、气态前驱体源。提供4路到6路前驱体源管路供用户选择。提供35路等离子体配置,配备质量流量计(MFC)H2,O2, Ar, N2, NH3等气体可选。采用分子泵使本底真空可以快速达到高真空。基片反应温度最高达600℃,或更高(选配);8英寸的样品尺寸同时兼容小尺寸样品可满足绝大多数客户的科研要求。

独有的技术优势:独有的单面沉积技术。

单面沉积模式TM SinglePro TM 专利技术:

  

沉积面                           背面

其他现有技术:

    

沉积面                           背面

基本技术参数

基片尺寸

4 -8 英寸可选

基片温度

RT-600,控制精度±1,可选配更高温度选件

前驱体输运系统

标准3路前驱体管路,可以选配到6路以上

反应腔

喷淋式等离子体和前驱体进气口;铝制穹顶等离子体扩散腔;

采用O-Ring密封的高真空系统,方便拆卸维护;

反应腔观察窗,方便拆卸更换

沉积模式

热沉积模式、等离子增强模式、连续模式TM Flow TM )、压力调谐模式TM PreTune TM)、单面沉积模式TMSinglePro TM

等离子体气源

标准3路,可以选配到6路以上

等离子体源

ICP remote plasma 500W, 更大功率可选

基片输运系统

手动, 手动/自动Load lock可选

可选件

手套箱,臭氧发生器,原位监测系统,尾气处理系统,离子束辅助沉积附件

沉积均匀性

Al2O3 均匀性 <±1%

仪器尺寸

1250(L)X800(W)X1800(H) mm

详细信息请联系我们