FlexeNano^TM系列是专门为柔性材料沉积领域的用户设计的原子层沉积系统。是基于革命性的创新设计的高产能卷对卷原子层沉积系统，模块化的沉积单元可灵活配置组合以适用于不同的走带速度和基带宽度。该系统完全符合CE标准。它的操作界面直观简单，配备多种材料的标准沉积工艺配方，使用及维护成本低。

高度集成和灵活性该系统适用于300mm及以下幅宽的柔性薄膜材料（典型材料PEN、PET）。50um厚度基带可以一次完成1000m以上沉积。提供不同厚度沉积模块供用户选择。设备高度集成体积2m（长）X1m（宽）X1.6m（高）

精确控制与多种沉积模式单向沉积模式、往复沉积模式、单面沉积模式、双面沉积模式等。可实现高速单、双面沉积，以及较厚（>50nm）的薄膜沉积。

稳定可靠与低使用维护成本腔体采用真空系统，结合特殊的前驱体气路设计，把前驱体源和载气的浪费减少到最低。典型Al2O3沉积工艺：N2载气流量1000sccm；每小时TMA消耗量<1g；实际使用功率：5KW。

完美的易操作性操作界面直观简单, 操作者很容易熟练掌握。所有参数（前驱体剩余量、沉积温度、载气流量，阀门状态等）均在计算机操作界面中设定修改，整个沉积过程及状态参数均实时显示。

完善的安全保障包含多重安全保护机制：阀门状态报警、温度超限报警、前驱体源不足报警等。异常情况自动关闭阀门、加热电源、电机等设备防止损伤以及前驱体泄漏。

基本技术参数

卷带尺寸	标准: 1000m (L) x 300mm (W) x 50μm (T)； 幅宽：300mm兼容小尺寸；更大宽度可选配
反应腔	铝制真空反应腔，分为放卷腔、沉积腔和收卷腔； 采用O-Ring密封的真空系统，方便拆卸维护； 真空腔配有观察窗和照明，方便时时查看运行情况
基带温度	RT-150℃可控，控制精度±1℃，可选配更高温度
沉积模式	单向沉积模式、往复沉积模式、单面沉积模式、双面沉积模式
控制硬件与软件	工控机触摸屏+PLC 控制，WindowsTM下的FlexeALDTM专用全自动控制软件；
前驱体输运系统	标准4路前驱体管路，可实现单面高速沉积或双面沉积
前驱体源瓶	500cc不锈钢标准源瓶，配有专用液位计时时显示剩余前驱体量
载气	每一路前驱体源配置独立的N2流量控制0-500sccm
卷带速度	0.1~0.5m/s可控
沉积速率	0.4~2.4nm可控@卷带速度，可选配更高速度
沉积均匀性	Al2O3沉积200mm宽<±5%
电源	50-60Hz, 220V /35A交流电源
仪器尺寸	2000(L)X1000(W)X1600(H) mm

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